光敏樹(shù)脂3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

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更新時(shí)間：2024-09-18

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品牌	摩方精密	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
光學(xué)精度	10μm

一、光敏樹(shù)脂3D打印產(chǎn)品介紹

光敏樹(shù)脂3D打印基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PµSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹(shù)脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件；
能夠打印工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開(kāi)發(fā)的全新功能工程材料。

二、系統(tǒng)性能

打印技術(shù) PμSL (面投影微立體光刻技術(shù))	光源 UV-LED	波長(zhǎng) 405nm
打印材料光敏樹(shù)脂/陶瓷	輸入數(shù)據(jù)文件格式 STL	光學(xué)分辨率 10μm
打印尺寸 100 × 100 × 75 mm	層厚 10-40μm	公差 +/- 25μm
設(shè)備功率 3000W	打印主機(jī)尺寸 650 x 700 x 790 mm	打印機(jī)重量 350kg
電壓 220V	認(rèn)證證書 CE